Работаем:
9:00 - 18:00, Пн. - Пт.
-
-
Позвонить
-
Написать
Компания TORGS специализируется на сопровождении производителей при включении продукции в реестры Минпромторга и обеспечивает выход на приоритетные рынки: госзакупки, корпоративные заказчики и маркетплейсы. Мы помогаем бизнесу соответствовать требованиям национального режима, получить статус «российской продукции» и реализовать все преимущества, закрепленные Постановлением Правительства №1875 от 2024 года.
Оставить заявку
Код ОКПД2: 28.99.20.110 — Оборудование для эпитаксиального выращивания полупроводниковых структур
Код:
28.99.20.110
Наименование:
Оборудование для эпитаксиального выращивания полупроводниковых структур
Раздел ОКПД2:
C — Продукция обрабатывающих производств
Уровень:
4
Номер:
13277
Соседние коды
- 28.99.20.120 — Оборудование химико-литографическое для обработки полупроводниковых пластин и формирования топологического рисунка
- 28.99.20.130 — Оборудование для ионной имплантации примесей в полупроводниковые пластины
- 28.99.20.140 — Физико-термическое оборудование
- 28.99.20.150 — Оборудование для формирования тонкопленочных структур полупроводниковых приборов
- 28.99.20.160 — Оборудование лазерное для обработки полупроводниковых пластин
- 28.99.20.170 — Оборудование для химико-механического утонения, полировки, планаризации, бондинга и дебондинга полупроводниковых пластин
- 28.99.20.180 — Оборудование для механической резки полупроводниковых слитков (булей) и пластин
- 28.99.20.190 — Оборудование сборочное для производства интегральных схем и дискретных полупроводниковых приборов
- 28.99.20.290 — Оборудование, исключительно или в основном используемое для производства полупроводниковых слитков или пластин, полупроводниковых устройств, электронных интегральных схем и дискретных полупроводниковых приборов прочее, не включенное в другие группировки
Какой ТН ВЭД подходит под ОКПД2: 28.99.20.110
| Код ТН ВЭД | Наименование |
|---|---|
| 8486 10 | Машины и аппаратура, используемые исключительно или в основном для производства полупроводниковых булей или пластин, полупроводниковых приборов, электронных интегральных схем или плоских дисплейных панелей; машины и аппаратура, поименованные в примечании 11 (В) к данной группе; части и принадлежности:машины и аппаратура для производства булей или пластин |
| 8486 20 | Машины и аппаратура, используемые исключительно или в основном для производства полупроводниковых булей или пластин, полупроводниковых приборов, электронных интегральных схем или плоских дисплейных панелей; машины и аппаратура, поименованные в примечании 11 (В) к данной группе; части и принадлежности:машины и аппаратура для производства полупроводниковых приборов или электронных интегральных схем |
| 8486 30 | Машины и аппаратура, используемые исключительно или в основном для производства полупроводниковых булей или пластин, полупроводниковых приборов, электронных интегральных схем или плоских дисплейных панелей; машины и аппаратура, поименованные в примечании 11 (В) к данной группе; части и принадлежности:машины и аппаратура для производства плоских дисплейных панелей |
| 8486 40 | Машины и аппаратура, используемые исключительно или в основном для производства полупроводниковых булей или пластин, полупроводниковых приборов, электронных интегральных схем или плоских дисплейных панелей; машины и аппаратура, поименованные в примечании 11 (В) к данной группе; части и принадлежности:машины и аппаратура, поименованные в примечании 11 (В) к данной группе |
| 8486 90 | Машины и аппаратура, используемые исключительно или в основном для производства полупроводниковых булей или пластин, полупроводниковых приборов, электронных интегральных схем или плоских дисплейных панелей; машины и аппаратура, поименованные в примечании 11 (В) к данной группе; части и принадлежности:части и принадлежности |
Полная классификационная характеристика ОКПД2 28.99.20.110 Оборудование для эпитаксиального выращивания полупроводниковых структур
Специализированные установки для формирования монокристаллических слоев методом газофазной эпитаксии (CVD), молекулярно-лучевой эпитаксии (MBE) или гидридной транспортировки. Основные технические параметры:
- Рабочая температура: 600-1200°C
- Точность контроля толщины слоя: ±1.5 нм
- Максимальный размер подложки: 300 мм
- Система вакуумной откачки: ≤5×10-7 Торр
Технология изготовления требует очистки компонентов класса ISO Class 4-5. Срок хранения оборудования в оригинальной упаковке - 24 месяца при влажности ≤45% и температуре 15-25°C. Упаковка включает многослойные антистатические контейнеры с азотной подушкой.
Нормативно-правовая база
- П. 7.2 Приложения №1 к Постановлению №719 (ред. 2025) – требование минимальной локализации 65% для компонентов реакторной камеры
- Регламент ЕЭК №082/2024 "О безопасности полупроводникового оборудования" – обязательная вибродиагностика узлов
- Изменение №1434-р от 15.03.2025 – включение импортных аналогов нагревательных элементов (код ЕТСНГ 8455 90 900 9) в перечень допустимых комплектующих
Требования к производителям
- Стандарт ГОСТ Р 56941-2023 "Установки эпитаксиальные. Общие технические условия"
- Наличие зон сборки категории Cleanroom Class 1000 (ISO 6)
- Обязательная аттестация технологов по программе ПК-17/28М "Передовые методы нанесения покрытий"
- Межлабораторные испытания каждые 6 месяцев согласно ГОСТ ISO/IEC 17025-2022
Процедура включения в реестр ОКПД2 28.99.20.110
- Электронная регистрация в ЕСИППК с формированием цифрового сертификата
- Предоставление полного цикла производства (от литья корпусов до финальной сборки)
- Типовая ошибка: отсутствие акта входного контроля импортных контроллеров температуры
- Срок рассмотрения – 45 рабочих дней с момента подтверждения пакета документов
- Основание для отказа: использование несертифицированных газовых смесей (п. 12.4 Регламента ТР ТС 032/2023)
Полный пакет документов
1. Нотификация РЭРС-05-28А
2. Карта технологического процесса с пооперационным описанием
3. Заключение о промышленных испытаниях (не менее 3 циклов по 72 часа)
4. Протоколы измерения параметров виброустойчивости по методике МИ 2304-2025
Международная классификация
| ТН ВЭД | Описание | Особенности тарификации |
|---|---|---|
| 8486 20 000 0 | Реакторы для химического осаждения | Импортная пошлина 6.5% (режим 201-СТ5) |
| 8424 89 900 9 | Вакуумные насосы специализированные | НДС 20% с акцизом на фреон |
Система подтверждения соответствия
- Обязательный сертификат ТР ТС 004/2011 (Форма С-12.55)
- Добровольное соответствие стандарту ASML E35-2024 для интерфейсов загрузки
- Маркировка обязательным QR-кодом TUV-регистрации
FAQ
- Распространяется ли Постановление №719 на ремонт оборудования?
- Только при замене более 40% компонентов по стоимости (п. 8 Приказа Минпромторга №344-ФЗ).
- Нужна ли обязательная сертификация для исследовательских установок?
- Требуется декларирование по схеме ДС-7М при мощности менее 5 кВт.
- Чем отличается от кода 28.99.20.120?
- Код 28.99.20.110 включает системы in-situ контроля, тогда как 28.99.20.120 – только базовую функцию осаждения.
